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临沂文波电镀设备多弧离子镀膜机的四代技术
发布日期:2018-11-14  点击次数:3574 双击自动滚屏,单击停止
以前一直是采用真空成膜技术使用在半导体工艺的绝缘膜形成中,这是由于SOD在原理上容易形成良好的嵌入特性,但同时为了形成液状而添加的材料容易作为杂质残留在绝缘膜中,而且由于需要进行烧结,因此SOD在工序数量和成本方面也容易处于劣势。第四代CVD技术可以不再需要SOD,这意味着一场巨大的改革。在这种情况下,此前擅长CVD的应用材料等厂商,为了扩大CVD的应用范围而进行了技术革新。后来产生了等离子CVD,Ozone(O3)CVD,以及高密度等离子CVD三项技术。
     公司立足实用、创新灵活的经营方法,以质优价廉、服务优赢得客户。并不断吸收,引进先进技术研制出满足各种镀件的整流电源。
信息来源:  文章作者:佚名 
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